KimByung-gook 說(shuō)，該公司去年獲得了 350 億韓元(當(dāng)前約 1.88 億元人民幣)的資金，其中大部分將用于研發(fā)。到目前為止，ESOL 已經(jīng)在其第一代產(chǎn)品線中推出了四款產(chǎn)品。其中，EUV 掩模檢查設(shè)備和 EUV 薄膜透光率檢測(cè)機(jī)已經(jīng)產(chǎn)生收入。

　　ESOL 是芯片薄膜制造商 FST 的子公司，由曾在三星芯片業(yè)務(wù)部門工作的 Kim Byung-gook 于 2018 年創(chuàng)立。

　　IT之家了解到，ESOL 主要開(kāi)發(fā) EUV 解決方案，專注于為 EUV 或極紫外光刻應(yīng)用開(kāi)發(fā)各種解決方案和設(shè)備。

　　其第一代產(chǎn)品線的另外兩款產(chǎn)品，即 EUV 相位反轉(zhuǎn)掩模機(jī)和用于光刻膠顯影的光刻機(jī)，也有望在今年產(chǎn)生收入。

　　ESOL 目前的四款產(chǎn)品中的主要產(chǎn)品是其薄膜透光率檢測(cè)設(shè)備，在該領(lǐng)域它至少要面臨兩個(gè)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

　　EUV 掩模檢查設(shè)備稱為 SREM 330.擁有掃描反射 EUV 顯微鏡，還有稱為 FREM 或全場(chǎng)反射 EUV 顯微鏡的配套設(shè)備正在開(kāi)發(fā)中。

　　同時(shí)，ESOL 公司 EUV 第二代陣容共有三款產(chǎn)品，其中一款將于今年推出。新設(shè)備將包括升級(jí)后的 EUV 掩模檢查設(shè)備，可以掃描掩模的整個(gè)表面，而不是像第一代機(jī)器那樣只掃描某些點(diǎn)。